最新インクジェット技術ノウハウ集

• 中野 純一 コダックヴァーサマークジャパン(株) セールス&マーケティング部 セールスマネージャー
• 細野 聡 セイコーエプソン(株) 研究開発本部 IJX開発部 課長
• 大田 徳也　ザール・ピーエルシー 日本事務所 在日代表，取締役
• 大坪 泰文　千葉大学 工学部 都市環境システム学科 教授 工学博士
• 大上 芳文　立命館大学 理工学部 機械工学科 教授 工学博士
• 篠原 敏彦　大日本インキ化学工業(株) 分析センター 東京分室 分室長
• 藤井 博行　旭硝子(株) 化学品カンパニー 事業統括本部 開発部 主幹技師
• 平井 良明 日本合成化学工業(株) 知的財産部 担当課長
• 万代 修作 日本合成化学工業(株) 中央研究所 機能材料研究室
• 平澤 朗 トッパン・フォームズ(株) 研究開発本部 中央研究所 第一研究グループ マネージャー
• 末広 省吾　(株)住化分析センター 大阪事業所 組成解析G
• 藤井 雅彦　富士ゼロックス(株) IJ技術開発センター マネージャー
• 笹井 浩介　コニカミノルタテクノロジーセンター(株) システム技術研究所 イメージシステム開発室 担当課長 工学博士
• 大東 良一　大日本印刷(株) 研究開発センター 電子システム研究所 エキスパート 工学博士
• 藤田 博之　東京大学 生産技術研究所 マイクロメカトロニクス国際研究センター 教授 工学博士
• 高原 淳 九州大学 先導物質化学研究所 分子集積化学部門 教授 工学博士
• 森田 正道　ダイキン工業(株) 化学事業部 基盤研究部 主任研究員 工学博士

第1章 各方式に見るインクジェット技術の最新動向

【第1節 連続噴射型超高速インクジェットデジタルプリンティングシステムの現状と最新動向】

• 1. コダックヴァーサマーク社の歴史
• 2. インクジェットの原理
• 3. インクドロップについて
• 4. コダックヴァーサマーク インクジェットシステム製品
• 5. 各機種の代表的使用例
• 6. インクジェット使用インク及び関連製品
• 7. 機種別使用用途及び市場
• 8. 今後の取り組みと新製品

【第2節 インクジェットプリンタの開発動向】

• 1. インクジェット技術の概要
• 2. インクジェットヘッドの代表的な技術
• 3. インクジェットヘッド技術
• 3.1MACHの構造
• 3.2MLChipsタイプの構造
• 3.3微小インク滴の吐出
• 3.4インク滴変調技術
• 3.5応答性の向上技術
• 3.6高精度吐出技術
• 3.7円形ドットの吐出技術
• 3.8ドット径均一化技術
• 3.9バンディング低減技術
• 3.10高速印刷技術

【第3節 インクジェット各方式の特長と産業用インクジェットの動向】

• 1. 新規応用分野への広がり
• 2. インクジェット記録各方式の特徴
• 3. 産業用インクジェットヘッドに要求される性能
• 4. 各方式の性能比較
• 5. 産業用インクジェットプリントヘッドの実例
• 6. 今後の方向と課題

第2章 高精細化、高画質化、高速化、耐候性向上～インク側からアプローチ～

【第1節 インクジェットインク分散系のレオロジー】

• 1. 低濃度非凝集分散系の粘度挙動
• 2. コロイド化学的粒子間相互作用
• 3. 高分子希薄溶液の粘弾性
• 4. 凝集分散系のレオロジー
• 5. インクジェットインキのレオロジーに関する考察

【第2節 インクジェットインクの液滴制御】

• 1. インクジェット液滴の数値シュミレーション法
• 1.1基礎方程式
• 1.2方程式の離散化と計算格子
• 2. 数値計算例
• 2.1境界条件，物性値
• 2.2振幅の影響
• 2.3ノズル内部体積の影響
• 2.4帯電電荷の影響

【第3節 インクジェットインクのメニスカスコントロール技術】

• 1. 高画質を実現するインク技術
• 1.1色材
• 1.2保湿剤
• 1.3浸透制御剤
• 2. 顔料インク技術
• 2.1μ－CRYSTAインクの開発
• 3. 高画質を実現する記録メディア技術
• 4. 高画質、高信頼性をサポートする技術
• 4.1メカ機構技術
• 4.2メンテナンス技術
• 4.3インクカートリッジ技術
• 5. 今後の展開

【第4節 インクジェットインクの分析と評価】

• 1. インクジェットインクの構成と組成分析
• 2. 基本的前処理技術
• 2.1溶剤分別法
• 2.2クロマトグラフィー分離
• 2.2.1カラムクロマトグラフィー
• 2.2.2GPC分取法
• 2.2.3イオン交換カラムクロマトグラフィー
• 3. 構成成分の分離・同定
• 3.1着色剤(染料・顔料)
• 3.2溶剤
• 3.3ワックス
• 3.3.1水及び低沸点溶剤
• 3.3.2高沸点溶剤
• 3.4樹脂
• 3.5添加剤
• 3.5.1界面活性剤
• 3.5.2可塑剤
• 3.5.3脂肪酸
• 3.5.4脂肪酸アミド
• 3.6UV硬化型インク
• 3.6.1ラジカル硬化型
• 3.6.2カチオン硬化型

第3章 高精細化、高画質化、高速化、耐候性向上～メディア側からアプローチ～

【第1節 アルミナ微粒子によるインク受容層形成技術】

• 1. インク受容層に求められる機能
• 2. 各種インク受容層
• 2.1膨潤型インク受容層
• 2.2空隙型インク受容層
• 3. アルミナ系インク受容層の特徴
• 3.1透明性
• 3.2インク吸収速度
• 3.3ドット形状
• 3.4耐水性
• 3.5顔料インク定着性
• 4. アルミナ系インクジェットメディア開発状況
• 4.1透明フィルムメディア
• 4.2光沢フィルムメディア
• 4.3光沢紙メディア
• 4.3.1印画紙ベース
• 4.3.2普通紙ベース(光沢系)
• 4.3.3普通紙ベース(半光沢系)
• 4.4プルーフメディア
• 4.5顔料インク用光沢紙
• 4.5.1本紙ベースプルーフ

【第2節 反応型PVA「ゴーセファイマーZ」のインクジェットメディアへの応用】

• 1. 反応型PVA「ゴーセファイマーZ」の特徴
• 1.1構造と特徴
• 1.2架橋剤による耐水性付与
• 2. インク受容層シリカバインダーへの応用
• 3. 光沢メディア用シリカバインダーへの展開

【第3節 産業用インクジェット印刷用受容層の設計と応用】

• 1. インクジェットの分類
• 2. 産業用インクジェット印刷の種類と傾向
• 2.1インクジェット印刷の特長
• 2.2産業用インクジェット印刷機に求められる性能
• 3. インクジェット受理メディアの設計
• 3.1設計する上での留意点
• 3.2評価方法
• 4. 印刷による受理メディア形成の実用例
• 4.1情報用紙と印刷による薄膜受理層の設計
• 4.1.1印刷によるインクジェット受理メディアの創造
• 4.1.2受理層形成オフセットインキの設計
• 4.1.3まとめ
• 4.2プラスチックカード用受理層形成インキ
• 4.2.1シルクスクリーンインキの設計思想
• 4.2.2実用例

【第4節 インクジェットフォトメディアの形態観察および組成解析】

• 1. インクジェットフォトメディアの形態観察
• 1.1ミクロ・ナノワールドを観るために
• 1.2断面・内部の微細構造を観る
• 1.3微細表面構造を観る
• 1.4SPMによるインクジェットメディアの観察事例
• 1.5広い範囲を観察して表面形状を評価する
• 1.6SWLIの測定原理およびインクジェットメディアの観察事例
• 2. インクジェットフォトメディアの組成解析
• 2.1元素分布から構造・組成を推定する
• 2.1.1各層の主成分を求める
• 2.1.2顕微Ramanによる微小部組成解析事例
• 2.1.3インク受容層中無機顔料の詳細な解析
• 2.2インク受容層の組成を求める

第4章 プリントヘッド技術、メンテナンスおよび インク輸送技術

【第1節 微細化、高速化のためのサーマルインクジェットプリントヘッド作製技術と噴射安定化技術】

• 1. プリントヘッドの微細化と高速化の課題
• 1.1プリントヘッドの高精度作製技術
• 1.2マイクロマシニング技術によるプリントヘッドの設計と作製
• 1.3高効率流路設計
• 2. インク滴噴射安定化技術
• 2.1噴射特性変動要因と対応技術
• 2.2ランダム故障
• 2.3噴射異常の検出と対応
• 3. ミスト解析と対応技術
• 4. サーマルインクジェットプリントヘッドの新しいメンテナンス技術

【第2節 静電誘導によるインク輸送】

• 1. システムの概要
• 2. 数値解析手法
• 3. 基礎実験手法
• 4. 数値解析結果
• 4.1基礎実験結果との比較
• 4.2インク輸送量
• 4.3スイッチングパルス周期

第5章 インクジェット技術における微細配線と薄膜、パターン形成

【第1節 金属微細配線の直描を可能にするシリコンマイクロノズルと静電吐出技術】

• 1. シリコンマイクロノズルと静電吐出技術
• 1.1シリコン製マイクロノズル
• 1.2静電吐出技術
• 2. ヘッドの作成方法
• 2.1マイクロマシニング法によるシリコンマイクロノズルの作製
• 2.2ヘッドの組み立て
• 3. 吐出状態の観察および微細ラインの直描結果
• 3.1実験方法
• 3.2吐出実験
• 3.3高粘度インクの吐出
• 3.4直描実験結果
• 3.5導電性ペーストを用いた微細配線形成

【第2節 インクジェット法によるフルオロアルキル系パターン化基板を用いた超微細薄膜の形成】

• 1. 化学気相吸着と真空紫外リソグラフィーによる成分系パターン化基板の調製
• 2. フルオロアルキル系パターン化基板のマイクロ濡れ
• 3. 高分子薄膜の局所製膜